在半導(dǎo)體工業(yè)中，薄膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路、光電器件以及傳感器等領(lǐng)域。薄膜的厚度是影響器件性能和可靠性的關(guān)鍵因素之一，因此，精準(zhǔn)的薄膜厚度測(cè)量至關(guān)重要。薄膜厚度測(cè)量?jī)x器作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的工具，發(fā)揮著重要作用。一、薄膜厚度的測(cè)量方法薄膜厚度的測(cè)量方法主要有幾種，其中常見(jiàn)的包括光學(xué)干涉法、X射線反射法、納米壓痕法和原子力顯微鏡（AFM）法等。這些方法各有優(yōu)缺點(diǎn)，通常根據(jù)實(shí)際需求和膜層材料的特性來(lái)選擇合適的測(cè)量方法。1.光學(xué)干涉法：利用光在薄膜界面發(fā)生干涉現(xiàn)象來(lái)測(cè)量薄膜厚度。該...

2025年3月11-13日，慕尼黑上海光博會(huì)在上海新國(guó)際博覽中心圓滿收官。本屆展會(huì)為業(yè)界呈現(xiàn)了一場(chǎng)高層次的科技盛宴。同時(shí)，本屆展會(huì)從展示范圍的廣泛度、光電產(chǎn)品的豐富度、趨勢(shì)傳遞的新穎度、交流合作的深入度等方面充分展現(xiàn)了全球化浪潮下，光電行業(yè)正通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新、國(guó)際合作、產(chǎn)業(yè)鏈整合等方式得到快速發(fā)展的態(tài)勢(shì)，贏得了行業(yè)企業(yè)和合作伙伴的高度認(rèn)可和贊譽(yù)。精彩盛況展會(huì)風(fēng)采展會(huì)期間人頭攢動(dòng)，頤光科技作為光學(xué)薄膜及納米結(jié)構(gòu)測(cè)量解決方案提供商，本次展會(huì)攜核心技術(shù)產(chǎn)品光譜橢偏儀、反射膜厚儀及光學(xué)膜...

慕尼黑上海光博會(huì)將于2025年3月11-13日在上海新國(guó)際博覽中心盛大召開(kāi)。2025年正值慕尼黑上海光博會(huì)20周年，作為亞洲激光、光學(xué)、光電行業(yè)的年度盛會(huì)，本屆展會(huì)以“躬耕不輟，智啟新程”為主題，超過(guò)1400家展商將齊聚申城，共同探索光電產(chǎn)業(yè)的未來(lái)發(fā)展方向。展會(huì)邀請(qǐng)函頤光科技將攜核心技術(shù)產(chǎn)品和解決方案參展，我們誠(chéng)摯邀請(qǐng)各位新老朋友蒞臨頤光展臺(tái)，希望通過(guò)此次機(jī)會(huì)與業(yè)內(nèi)同仁、專家們共同交流探討、共商合作、互利發(fā)展。展館平面圖頤光科技展位：E7館7472產(chǎn)品介紹關(guān)于我們武漢頤光科技...

在材料科學(xué)與半導(dǎo)體領(lǐng)域不斷探索創(chuàng)新的征程中，橢圓偏光儀憑借其光學(xué)測(cè)量原理，正發(fā)揮著不可替代的關(guān)鍵作用，為這些領(lǐng)域帶來(lái)諸多創(chuàng)新應(yīng)用。1、在材料科學(xué)領(lǐng)域，橢圓偏光儀成為研究材料微觀結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì)的得力助手。對(duì)于新型納米材料，它能精確測(cè)量材料的厚度、折射率等參數(shù)。比如在二維納米材料研究中，通過(guò)偏光儀可以無(wú)損且高精度地確定石墨烯等材料的層數(shù)。由于不同層數(shù)的石墨烯光學(xué)性質(zhì)存在細(xì)微差異，偏光儀能夠敏銳捕捉這些變化，為材料的制備與性能優(yōu)化提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。2、在材料表面和界面研究方面，偏光...

紅外橢偏儀是一種高度精密的光學(xué)分析儀器，主要功能是在紅外光譜范圍內(nèi)對(duì)材料進(jìn)行無(wú)損表征。它通過(guò)測(cè)量材料對(duì)紅外光的反射或透射過(guò)程中偏振狀態(tài)的變化，從而推斷出樣品的諸多物理屬性，如介電常數(shù)、光學(xué)性質(zhì)、薄膜厚度等。作為一種先進(jìn)的光學(xué)測(cè)量工具，紅外橢偏儀能夠以非破壞性的方式獲取材料的多種物理性質(zhì)。具體而言，它可以精確測(cè)量如下幾類關(guān)鍵物理量：1、光學(xué)常數(shù)：包括復(fù)折射率（實(shí)部n與虛部k）、吸收系數(shù)α。這些參數(shù)對(duì)于理解和預(yù)測(cè)材料的電磁行為至關(guān)重要，如色散關(guān)系、反射率、透射率等。2、薄膜厚度：...

光譜橢偏儀（SE）是一種高精度的光學(xué)測(cè)量?jī)x器，廣泛應(yīng)用于薄膜材料的表征與質(zhì)量控制。通過(guò)測(cè)量反射光的偏振變化，光譜橢偏儀能夠提供薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等重要參數(shù)，進(jìn)而評(píng)估薄膜的光學(xué)性質(zhì)、表面質(zhì)量以及結(jié)構(gòu)特征。近年來(lái)，隨著薄膜技術(shù)的進(jìn)步，橢偏儀在薄膜質(zhì)量控制中的應(yīng)用取得了顯著的創(chuàng)新性進(jìn)展。1、薄膜厚度與光學(xué)常數(shù)的精準(zhǔn)測(cè)量橢偏儀常見(jiàn)的應(yīng)用是薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的測(cè)量。在薄膜的生產(chǎn)過(guò)程中，厚度控制對(duì)于其性能至關(guān)重要。例如，在半導(dǎo)體制造中，薄膜的厚度直接影響器件的電學(xué)性能和可靠性。...