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詳細介紹
一、概述
SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜橢偏儀，其采用自主研發的橢偏創新技術，具備 1 雙旋轉補償器同步控制技術，2 透明基底消背反技術 等技術。快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視化調平系統等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。
■ 高精度橢偏測量解決方案；
■ 超高精度、快速無損測量；
■ 支持多角度、微光斑、可視化調平系統功能模塊靈活定制；
■ 豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力。
二、產品特點
■ 采用高性能進口復合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm)，可支持擴展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 高精度雙旋轉補償器調制、PCrSCrA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；
■ 支持系列配置靈活，可根據不同應用場景支持多功能模塊化定制；
■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。
三、產品應用
SE-VM廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現光學薄膜、納米結構的光學常數和幾何特征尺寸快速的表征分析。
可選配件
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| 溫控臺 | Mapping擴展模塊 | 真空泵 | 透射吸附組件 |
技術參數
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